Silikon ing wafer insulator

Prinsip kerja sakaIku semikonduktorSSilikon ing wafer insulatorutamane gumantung karo struktur unik lan sifat-bahan material. Lan SOI WAFERkasusun saka telung lapisan: lapisan ndhuwur yaiku lapisan piranti ceramal silicon tunggal, ing tengah yaiku lapisan oxide (kothak) sing dikubur oxide (kothak), lan lapisan ngisor minangka substrat silikon sing ndhukung.

Struktur silikon ing wafers insulator (soi)

Pembentukan lapisan insulasi: Silicon ing wafer insulator biasane diprodhuksi kanthi nggunakake teknologi Smart Cut ™ utawa Simox (pemisahan kanthi teknologi oksigen). Teknologi Smart Cut ™ nyuntikake ion hidrogen menyang silikon wafer kanggo mbentuk lapisan gelembung, banjur ikatan hidrogen-injected wafer kanggo silikon sing ndhukungwaferWaca rangkeng-. 

Sawise perawatan panas, wafer hidrogen sing disuntikake dipérang saka lapisan gelembung kanggo mbentuk struktur soi.Teknologi SimoxIon oksigen tanpa energi menyang silikon wafers kanggo mbentuk lapisan oksida silikon ing suhu sing dhuwur.

Nyuda kapasis parasit: Lapisan kothak sakaWAfron karbida karbidaNgedulake kanthi efektif lapisan piranti lan silikon dhasar, signifikan mireging kapasitas parasit. Iki ngisolasi nyuda konsumsi tenaga lan nambah kacepetan lan kinerja piranti.

Ngindhari efek jambol: Piranti N-Well lan P-Well ingSOI WAFERWis rampung, ngindhari efek tlatah ing struktur CMO tradisional. Iki ngidiniwafer soi diprodhuksi kanthi kecepatan sing luwih dhuwur.

Fungsi ETCH STOP: Inglapisan piranti crystal crystal tunggalStruktur lapisan kothak saka wau wafer nggampangake manufaktur memem lan piranti optoelectronik, nyediakake fungsi mandeg etch.

Liwat karakteristik kasebut,Silikon ing wafer insulatornduwe peran penting ing proses pangolahan semikonduktor lan promosi pembangunan sirkuit terpadu (IC) lanMicroelectramelical Systems (MEMS)industri. Kita tulus ngarep-arep komunikasi lan kerjasama karo sampeyan.

Parameter spesifikasi wafers 200mm:

Silicon ing Insulator Wafers Produksi Toko: