Proses RTA/RTP

VeTek Semiconductor nyedhiyakake operator wafer Proses RTA / RTP, digawe saka grafit kemurnian dhuwur lan lapisan SiC kanthiimpurity ngisor 5ppm.

Rapid annealing furnace minangka jinis peralatan kanggo perawatan annealing material lanProses RTA/RTP, Kanthi ngontrol proses pemanasan lan pendinginan materi, bisa nambah struktur kristal materi, nyuda stres internal, lan nambah sifat mekanik lan fisik materi kasebut. Salah sawijining komponen inti ing kamar tungku anil cepet yaiku pembawa wafer /panrima waferkanggo loading wafer. Minangka pemanas wafer ing kamar proses, ikipiring pembawanduweni peran penting ing perawatan pemanasan lan pemerataan suhu kanthi cepet.

Karbida silikon, aluminium nitrida lan karbida silikon grafit kasedhiya kanggo tungku anil cepet, lan pilihan utama ing pasar yaiku grafit lanlapisan silikon karbida minangka bahan. 

Ing ngisor iki yaikufitur lan kinerja bangetsaka VeTek Semiconductor SiC coated RTA RTP process wafer carrier:

-Stabilitas Suhu Dhuwur: Lapisan SiC nuduhake stabilitas suhu dhuwur sing luar biasa, njamin integritas struktur lan kekuatan mekanik sanajan ing suhu sing ekstrem. Kapabilitas iki ndadekake banget cocok kanggo proses perawatan panas sing nuntut.

-Konduktivitas termal sing apik banget: Lapisan lapisan SiC nduweni konduktivitas termal sing luar biasa, supaya distribusi panas kanthi cepet lan seragam. Iki tegese proses panas sing luwih cepet, nyuda wektu pemanasan lan nambah produktivitas sakabèhé. Kanthi ningkatake efisiensi transfer panas, nyumbang kanggo efisiensi produksi sing luwih dhuwur lan kualitas produk sing unggul.

-Kimia Inertness: Ing inertness kimia gawan saka silikon karbida menehi resistance banget kanggo karat saka macem-macem bahan kimia. Pembawa wafer silikon karbida sing dilapisi karbon bisa beroperasi kanthi andal ing lingkungan kimia sing beda-beda tanpa ngrusak utawa ngrusak wafer.

-Flatness lumahing: Lapisan karbida silikon CVD njamin permukaan sing rata lan lancar, njamin kontak sing stabil karo wafer sajrone proses termal. Iki ngilangi introduksi cacat permukaan tambahan, njamin asil pangolahan sing optimal.

-entheng lan High Strength: Pembawa wafer RTP sing dilapisi SiC kita entheng nanging nduweni kekuatan sing luar biasa. Karakteristik iki nggampangake loading lan unloading wafer sing trep lan dipercaya.

Cara nggunakake operator wafer Proses RTA RTP:

VeTek Semiconductor's SiC coating wafer receiver & receiver cover

panrima RTA RTP Pembawa wafer RTA RTP Baki RTP (kanggo perawatan pemanasan cepet RTA) Baki RTP (kanggo perawatan pemanasan cepet RTA) RTP panrima RTP Wafer Dhukungan Tray