CVD SiC coating Epitaxy susceptor

Veteksemicon's CVD SiC Coating Epitaxy Susceptor minangka alat sing dirancang kanthi presisi sing dirancang kanggo pangolahan wafer semikonduktor. SiC Coating Epitaxy Susceptor iki nduweni peran penting kanggo ningkatake pertumbuhan film tipis, epilayers, lan lapisan liyane, lan bisa ngontrol suhu lan sifat materi kanthi tepat. Sugeng rawuh pitakon luwih lanjut.

dhasarSifat fisik lapisan CVD SiC:

CVD SiC Coating Epitaxy Susceptor Keuntungan Produk:

● Precise Deposition: Susceptor nggabungake substrat grafit konduktif banget termal karo lapisan SiC kanggo nyedhiyakake platform dhukungan sing stabil kanggo substrat (kayata sapir, SiC utawa GaN). Konduktivitas termal sing dhuwur (kayata SiC kira-kira 120 W / m · K) bisa kanthi cepet nransfer panas lan njamin distribusi suhu seragam ing permukaan substrat, saéngga ningkatake pertumbuhan lapisan epitaxial kanthi kualitas dhuwur.

● Suda Kontaminasi: Lapisan SiC sing disiapake kanthi proses CVD nduweni kemurnian sing dhuwur banget (isi impurity <5 ppm) lan tahan banget kanggo gas korosif (kayata Cl₂, NH₃), nyegah kontaminasi lapisan epitaxial.

● Daya tahan: Kekerasan dhuwur SiC (kekerasan Mohs 9.5) lan resistensi nyandhang nyuda kerugian mekanik basa sajrone nggunakake bola-bali lan cocog kanggo proses produksi semikonduktor frekuensi dhuwur.

VeTeksemicon setya nyedhiyakake produk sing bermutu lan rega sing kompetitif. Kita ngarep-arep dadi mitra jangka panjang sampeyan ing China.

VeTek Semikonduktor toko produk: