Keropos Keramik Vakum Chuck

Vetek Semiconductor minangka pabrikan Cina Porous Ceramic Vacuum Chuck, sing digunakake kanggo ndandani lan nahan wafer silikon utawa substrat liyane kanthi adsorpsi vakum kanggo mesthekake yen bahan kasebut ora owah utawa luntur sajrone proses. Vetek Semiconducto bisa nyedhiyakake produk Porous Keramik Vakum Chuck kemurnian dhuwur kanthi kinerja biaya dhuwur. Sugeng rawuh kanggo takon.

Vetek Semiconductor nawakake seri produk Keramik Vakum Keramik Porous sing apik banget, dirancang khusus kanggo nyukupi syarat manufaktur semikonduktor modern. Operator kasebut nuduhake kinerja sing apik ing kebersihan, flatness lan konfigurasi jalur gas sing bisa disesuaikan.

Karesikan sing ora ana tandhingane:

Penghapusan impurity: Saben keropos Keramik Vacuum Chuck wis sintered ing 1200 ° C kanggo 1,5 jam kanggo rampung mbusak impurities lan mesthekake yen lumahing punika resik minangka anyar.

Kemasan vakum: Kanggo njaga negara resik, keropos Keramik Vacuum Chuck dikemas vakum kanggo nyegah kontaminasi nalika panyimpenan lan transportasi.

Flatness apik banget:

Adsorpsi wafer padhet: Porous Keramik Vacuum Chuck njaga daya adsorpsi saka -60kPa lan -70kPa sadurunge lan sawise wafer panggonan, mungguh, mesthekake yen wafer wis kuwat adsorbed lan ngalangi saka tiba mati sak transmisi kacepetan dhuwur.

Mesin Presisi: Mburi operator wis tliti machined kanggo mesthekake lumahing rampung warata, mangkono njaga segel vakum stabil lan nyegah bocor.

Desain sing disesuaikan:

Customer-centric: Vetek Semiconductor makarya kanthi rapet karo pelanggan kanggo ngrancang konfigurasi jalur gas sing nyukupi syarat proses tartamtu kanggo ngoptimalake efisiensi lan kinerja.

Tes Kualitas Ketat:

Vetek nganakake tes lengkap ing saben bagean Porous SiC Vacuum Chuck kanggo njamin kualitase:

Tes Oksidasi: SiC Vacuum Chuck cepet digawe panas nganti 900 ° C ing lingkungan bebas oksigen kanggo simulasi proses oksidasi nyata. Sadurunge iki, operator wis anil ing 1100 ° C kanggo njamin kinerja optimal.

Tes Sisa Logam: Kanggo nyegah kontaminasi, operator digawe panas ing suhu dhuwur 1200 ° C kanggo ndeteksi apa ana impurities logam precipitated.

Tes vakum: Kanthi ngukur prabédan tekanan antarane Porous SiC Vacuum Chuck karo lan tanpa wafer, kinerja sealing vakum wis strictly dites. Bedane tekanan kudu dikontrol ing ± 2kPa.

Tabel Karakteristik Chuck Keramik Keramik:

Toko VeTek Semiconductor Porous SiC Vacuum Chuck: