Solid Silicon Carbide Kab

VeTek Semiconductor Solid Silicon Carbide minangka komponen keramik penting ing peralatan etsa plasma, silikon karbida padhet (CVD silikon karbida) bagean ing peralatan etching kaleburing fokus, showerhead gas, tray, dering pinggiran, lan sapiturute. Amarga reaktivitas lan konduktivitas saka silikon karbida padhet (CVD silikon karbida) kanggo klorin - lan gas etsa sing ngemot fluorine, bahan kasebut minangka bahan sing cocog kanggo dering fokus peralatan plasma lan liyane. komponen.

Contone, dering fokus minangka bagéyan penting sing diselehake ing njaba wafer lan kontak langsung karo wafer, kanthi ngetrapake voltase menyang dering kanggo fokus plasma sing ngliwati dering, saéngga fokus plasma ing wafer kanggo nambah keseragaman. pangolahan. Ring fokus tradisional digawe saka silikon utawakuarsa, Silicon konduktif minangka bahan ring fokus umum, iku meh cedhak konduktivitas wafer Silicon, nanging kekurangan punika resistance etching miskin ing plasma fluorine-ngemot, etching mesin bahan bagean asring digunakake kanggo periode wektu, bakal ana serius. kedadean karat, akeh nyuda efficiency produksi.

SRing Fokus SiC olidPrinsip Kerja：

Working Principle of Solid SiC Focus Ring

Perbandingan Ring Fokus Berbasis Si lan Cincin Fokus CVD SiC:

Perbandingan Si Based Focusing Ring lan CVD SiC Focusing Ring
Item	lan	CVD SiC
Kapadhetan (g/cm³)	2.33	3.21
Band gap (eV)	1.12	2.3
Konduktivitas termal (W/cm ℃)	1.5	5
CTE (x10^-6/ ℃)	2.6	4
Modulus elastis (GPa)	150	440
Kekerasan (GPa)	11.4	24.5
Resistance kanggo nyandhang lan karat	mlarat	Banget

VeTek Semiconductor nawakake bagean silikon karbida padhet (CVD silikon karbida) kaya dering fokus SiC kanggo peralatan semikonduktor. Cincin fokus karbida silikon sing padhet ngluwihi silikon tradisional saka segi kekuatan mekanik, resistensi kimia, konduktivitas termal, daya tahan suhu dhuwur, lan resistensi etsa ion.

Fitur utama ring fokus SiC kalebu:

Kapadhetan dhuwur kanggo nyuda tingkat etsa.

Insulasi sing apik banget kanthi bandgap sing dhuwur.

Konduktivitas termal sing dhuwur lan koefisien ekspansi termal sing kurang.

Resistance lan elastisitas impact mekanik sing unggul.

Atose dhuwur, tahan nyandhang, lan tahan korosi.

Diprodhuksi nggunakakePlasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD)Techniques, dering fokus SiC kita nyukupi panjaluk pangolahan etsa ing manufaktur semikonduktor. Dheweke dirancang kanggo tahan daya lan energi plasma sing luwih dhuwur, utamane ingcapacitively coupled plasma (CCP)sistem.

Dering fokus SiC VeTek Semiconductor nyedhiyakake kinerja lan keandalan sing luar biasa ing manufaktur piranti semikonduktor. Pilih komponen SiC kanggo kualitas lan efisiensi sing unggul.

View as

Dering SIC Etching Fokus

Solid SiC Etching Focusing Ring minangka salah sawijining komponen inti saka proses etsa wafer, sing nduweni peran kanggo ndandani wafer, fokus plasma lan ningkatake keseragaman etsa wafer. Minangka produsen Cincin Fokus SiC sing misuwur ing China, VeTek Semiconductor duwe teknologi canggih lan proses sing diwasa, lan nggawe Dering Fokus Etching Solid SiC sing nyukupi kabutuhan pelanggan pungkasan miturut syarat pelanggan. Kita ngarepake pitakon sampeyan lan dadi mitra jangka panjang saben liyane.

Ndeleng Liyane >> Kirim Pitakonan >>

Minangka Produsen lan supplier profesional Solid Silicon Carbide Kab ing China, kita duwe pabrik dhewe. Apa sampeyan mbutuhake layanan khusus kanggo nyukupi kabutuhan wilayah tartamtu utawa pengin tuku sing digawe lan awet sing digawe ing China, sampeyan bisa ninggalake pesen.

Kode QR

Babagan awake dhewe

Produk

Hubungi Kita

Telpon
+86-18069220752
Fax
+86-579-87223657
E-mail
anny@veteksemi.com
alamat
Jalan Wangun, Street Ziyang, Wuyi County, Jinhua City, Provinsi Zhejiang, China

Menu Web

Panelusuran Produk

Basa

Menu metu

Solid Silicon Carbide Kab

Fitur utama ring fokus SiC kalebu:

Dering SIC Etching Fokus

Kirim Pitakonan

Kode QR

Babagan awake dhewe

Produk

Hubungi Kita

Telpon

Fax

E-mail

alamat