Susceptor lapisan SIC MOCVD

VeTek SemikonduktorMOCVD SiC Coating Susceptor digawe saka kualitas dhuwurgrafit, sing dipilih kanggo stabilitas termal lan konduktivitas termal banget (kira-kira 120-150 W/m·K). Sifat-sifat bawaan grafit nggawe bahan sing cocog kanggo nahan kahanan sing atos ing njeroReaktor Mocvd. Kanggo nambah kinerja lan ngluwihi umur layanan, susceptor grafit kasebut kanthi teliti dilapisi karo lapisan silikon karbida (SiC).

MOCVD SiC Coating Susceptor minangka komponen kunci sing digunakake ingDepepensi uap kimia (CVD)lanProses kimia kimia logam organik (mocvd). Fungsi utamane yaiku ndhukung lan panas wafer silikon utawa silikon karbida (SiC) lan njamin deposisi gas seragam ing lingkungan suhu dhuwur. Iku produk indispensable ing Processing semikonduktor.

Aplikasi saka susceptor lapisan MOCVD SiC ing pangolahan semikonduktor:

Dhukungan wafer lan pemanasan:

Susceptor lapisan SICVD MOCVD ora mung duwe fungsi dhukungan sing kuat, nanging uga bisa panas kanthi efektifwaferroto-roto kanggo njamin stabilitas proses deposisi uap kimia. Sajrone proses deposisi, konduktivitas termal sing dhuwur saka lapisan SiC bisa kanthi cepet nransfer energi panas menyang saben area wafer, ngindhari overheating lokal utawa suhu ora cukup, saéngga mesthekake yen gas kimia bisa disimpen kanthi rata ing permukaan wafer. Efek pemanasan lan deposisi seragam iki ningkatake konsistensi pangolahan wafer, nggawe ketebalan film permukaan saben seragam wafer lan ngurangi tingkat cacat, luwih ningkatake asil produksi lan keandalan kinerja piranti semikonduktor.

Wutah EPitexy:

IngProses MOCVD, Operator pelatih SIC minangka komponen utama ing proses wutah epitexs. Iki digunakake khusus kanggo ndhukung lan panas wafer lan silikon karbida, njamin bahan kasebut ing fase kimia bisa kanthi seragam lan kanthi akurat struktur wafer, saéngga mbentuk struktur film tipis kanthi akurat. Kelipan SIC ora mung tahan kanggo suhu sing dhuwur, nanging uga njaga stabilitas kimia ing lingkungan proses kompleks supaya kontaminasi lan karat. Mula, para operator sing dilapisi SIC main peran penting ing proses wutah epitonduktor epitonduktor kayata piranti SIC (kayata lods (utamane biru lan dioda), lan sel solar fotovoltik.

Gallium Nitride (GaN)lan Gallium Arsenide (GaAs) Epitaxy:

Pelaporan sing dilapisi sic minangka pilihan sing penting kanggo tuwuhing Gan lan lapisan epitoxial gaas amarga tumindak termal lan koefision ekspansi termal sing apik. Konduktivitas termal sing efisien bisa nyebarke kanthi panas sajrone wutah epitixial, mesthekake yen lapisan sing disimpen bisa tuwuh kanthi seragam kanthi suhu sing dikontrol. Ing wektu sing padha, ekspansi termal SIC sing murah ngidini tetep stabil kanthi owah-owahan suhu sing ekstrem, kanthi efektif nyuda risiko deformasi wafer, kanthi efektif njamin kualitase lan konsistensi saka lapisan epitoxial. Fitur iki ndadekake operator sing ditutupi SIC kanggo nggawe piranti elektronik sing cocog, kayata piranti lan komunikasi optik lan piranti lan detektor berbasis GAAEL2 (kayata).

VeTek SemikonduktorToko susceptor lapisan MOCVD SiC: