Plate Distribusi Gas Kuarsa

Piring distribusi distribusi, uga dikenal kanthi jeneng CharmEheHeads, yaiku komponen kritis ing fabrikasi semikonduktor. Gunakake kemurnian sing luar biasa, resistensi suhu dhuwur, lan tahan karat saka kuarsa, piring-piring proses seragam lan stabil menyang permukaan wafer. Pangiriman tepat iki penting kanggo njaga kualitas lan keseragaman kanggo nyepak film utawa fitur sing wis digawe.

Fitur Key saka Kuaritas Fused Tinggi

● Bahan: 99.99% Kuburan sing sampurna

● Rintangan suhu dhuwur: Tahan suhu ndhuwur 1000 ℃

● Rintangan karat: Kekahanan sing apik kanggo ngetrapake proses gas lan lingkungan plasma

● Aliran gas presisi: Distribusi bolongan mikro seragam kanggo pangiriman gas lan keseragaman gas optimal

● Desain sing bisa disesuaikan: Ukuran, pola bolongan, lan fitur pemasangan bisa cocog kanggo model peralatan tartamtu

Peran inti ing Pabrik Semikonduktor

1. Deposisi uap fisik (PVD) & pemendaran uap kimia (CVD)

Peran: Ing proses PVD lan CVD, piring distribusi gas kanthi bener ngarahake gas reaktif (E.gonia, oksigen) utawa prekursu kanggo mbentuk film tipis sing dikarepake.

Panggunan khusus:

● Kontrol Kesataman: Mikro-bolongan mikro-bolongan sing tepat kanggo mesthekake yen aliran gas lan konsentrasi seragam ing permukaan wafer kabeh. Iki penting kanggo nyelehake film kanthi ketebalan lan kinerja sing konsisten.

● Pencegahan kontaminasi: Kesucian kuarsa sing dhuwur nyegah piring kasebut saka reaksi kanthi gas utawa geser. Iki njaga kesucian film lan nyegah cacat ing permukaan wafer.

2 .. PLASA-Ningkatake Vapor Dependinasi Chemical (PECVD)

Peran: Ing PECVD, Quarz Showerhead ora mung ngirim gas reaktif, nanging uga bisa digunakake minangka elektroda kanggo generasi Plasma.

Panggunan khusus:

● Penerbangan Plasma: Sumber daya frekuensi radio (RF) kanggo ngasilake plasma. Partikel dhuwur energi ing plasma promosi bosok saka reaktan gas, mbisakake deposisi film ing suhu sing luwih murah.

● Stabilitas termal: Quartz nampilake stabilitas termal sing apik, saéngga tahan lingkungan plasma sing dhuwur. Iki mbantu njaga suhu seragam ing ruang proses, luwih akeh njamin kualitas film lan konsistensi.

3 .. etching garing

Peran: Ing etching garing, plate distribusi gas ngenalake gas etching reaktif (e.g., fluororocarbons, klorin) menyang kamar etch.

Panggunan khusus:

● Eggyakake keseragaman: piring njamin aliran seragam lan konsentrasi gas etch, sing njamin ambane lanjut sing konsisten lan profil ing kabeh wafer. Iki penting kanggo nggayuh pola sing dibutuhake kanggo piranti semikonduktor sing luwih maju.

● Tahan karat: sifat-sifat korosif sing kuat saka gas etch sing kudu dadi bahan sing awet. Rintangan karat krodhong kuarza ngluwihi umur showerhead lan nyuda risiko gangguan proses.

4 .. ngresiki wafer

Peran: Ing proses ngresiki wafer khusus, piring distribusi bensin quartz digunakake kanggo ngirim gas sing ngresiki (e.gone, amonia) seragam kanggo lumahing wafer kanggo mbusak residu utawa rereged.

Panggunan khusus:

● Pembersihan konsisten: piring njamin gas sing ngresiki bisa nggayuh saben bagean saka wafer, ngaktifake proses pembersihan sing jero lan seragam.

● Kompatibilitas kimia: Kompatibilitas Quartz kanthi macem-macem bahan kimia ngresiki ora nyegah reaksi lan njaga kesucian lan njaga prosesitas lan efektifitas proses reresik.