Apa aplikasi bagean khusus kanggo lapangan lapisan semikonduktor?

Properties fisik karbida karbida (Tac)

Aplikasi saka lapisan karbida tantalum (Tac) ing lapangan semikonduktor

1. Komponen reaktor pertumbuhan epitoxial

Lapisan Tac umume digunakake ing komponen reaktor uap (CVD) saka gallium nitride (gan) epitarial lan silikon karbida (SIC) Epitalixial, kalebuoperator wafer, sajian satelit, muncung lan sensor. Komponen kasebut mbutuhake daya tahan lan stabilitas sing akeh banget lan stabil ing suhu sing dhuwur lan lingkungan korosif. Latihan tac kanthi efektif ngluwihi layanan lan nambah ngasilake.

2. Komponen Wulan Crystal tunggal tunggal

Ing proses pertumbuhan kristal tunggal kayata SIC, Gan lan Aluminium Nitride (Ain),Lapisan tacditrapake kanggo komponen utama kayata Crucible, Pemegang Crystal Wiji, pandhuan dering lan saringan. Bahan-bahan grafit karo lapisan tac bisa nyuda migrasi sing sejatine, nambah kualitas kristal lan nyuda kapadhetan cacat.

3. Komponen industri suhu dhuwur

Lapisan tac bisa digunakake ing aplikasi industri suhu sing dhuwur kayata unsur pemanasan sing dirusak, muncung injeksi, cincin shielding lan peralatan brazing. Komponen kasebut kudu njaga kinerja sing apik ing lingkungan suhu sing dhuwur, lan resistensi panas lan tahan korosi nggawe pilihan sing cocog.

4. Pemanas ing sistem MOCVD

Pemanas grafit sing ditutupi TAC-dilapisi kanthi sukses ing sistem pemanas kimia organik organik (MOCVD). Dibandhingake karo pemanas sing dilapisi tradisional PBN bisa nyedhiyakake efisiensi lan keseragaman sing luwih apik, nyuda konsumsi daya, lan nyuda emisitas permukaan, saéngga ningkatake integritas.

5. Wuwabsan operator wafer

Pelajaran wafer sing dilapisi TAC-Coated duwe peran penting kanggo nyiapake bahan semikonduktor generasi kayata SIC, Ain lan Gan. Pasinaon nuduhake yen tingkat karat sakaTac Coatingsing ammonia suhu dhuwur lan lingkungan hidrogen luwih murah tinimbang singCoverings SIC, sing nggawe stabilitas lan ketahanan sing luwih apik ing panggunaan jangka panjang.