Susceptor Barrel Co Surgo

VeTek Semikonduktorminangka produsen, pemasok lan eksportir lapisan SiC lan TaC sing misuwur ing China. Adhering kanggo nguber kualitas sampurna produk, supaya SiC Coated Barrel Susceptor wis wareg dening akeh pelanggan. Desain ekstrem, bahan mentah sing berkualitas, rega sing dhuwur lan rega kompetitif yaiku kabeh pengin para pelanggan, lan uga sing bisa ditawakake. Mesthi wae, uga penting yaiku layanan sawise-adol sing sampurna. Yen sampeyan kepengin weruh Layanan Susceptor Barrel Coated SIC, sampeyan bisa takon karo saiki, kita bakal mangsuli ing wektu!

VeTek SemikonduktorSiC Coated Barrel Susceptor utamane digunakake kanggo reaktor LPE Si EPI

LPE (Liquid Phase Epitaxy) silikon epitaxy minangka teknik pertumbuhan epitaxial semikonduktor sing umum digunakake kanggo nyelehake lapisan tipis silikon kristal tunggal ing substrat silikon. Iku cara wutah fase Cairan adhedhasar reaksi kimia ing solusi kanggo entuk wutah kristal.

Prinsip dhasar epitaksi silikon LPE kalebu nyemplungake substrat menyang solusi sing ngemot materi sing dikarepake, ngontrol suhu lan komposisi solusi, ngidini materi ing solusi kasebut tuwuh minangka lapisan silikon kristal tunggal. ing lumahing landasan. Kanthi nyetel kahanan wutah lan komposisi solusi sajrone pertumbuhan epitoxial, kualitas kristal sing dikarepake, kekandelan, lan doping doping bisa digayuh.

LPE Silicon Epitexy nawakake sawetara karakteristik lan kaluwihan. Kaping pisanan, bisa ditindakake kanthi suhu sing sithik, nyuda stres termal lan ekspas ing materi kasebut. Kapindho, LPE Silicon Epitexy nyedhiyakake keseragaman sing dhuwur lan kualitas kristal sing apik, cocog kanggo manufaktur piranti semikonduktor kanthi dhuwur. Kajaba iku, teknologi LPE ngaktifake wutah struktur kompleks, kayata multilayer lan heterostruktur.

Ing epitaksi silikon LPE, SiC Coated Barrel Susceptor minangka komponen epitaxial sing penting. Biasane digunakake kanggo nahan lan ndhukung substrat silikon sing dibutuhake kanggo pertumbuhan epitaxial nalika nyedhiyakake kontrol suhu lan atmosfer. Lapisan SiC nambah daya tahan suhu dhuwur lan stabilitas kimia susceptor, nyukupi syarat proses pertumbuhan epitaxial. Kanthi nggunakake SiC Coated Barrel Susceptor, efisiensi lan konsistensi pertumbuhan epitaxial bisa ditingkatake, njamin pertumbuhan lapisan epitaxial sing bermutu.

Sifat fisik dhasar saka lapisan CVD SiC

Struktur Film Film CVD SIC

VeTek SemikonduktorSic dilapisi Barrel Susceptor Toko Produksi