SiC Coating grafit MOCVD pemanas

MOCVD minangka teknologi pertumbuhan film tipis presisi sing akeh digunakake ing manufaktur piranti semikonduktor, optoelektronik lan mikroelektronik. Liwat teknologi MOCVD, film bahan semikonduktor berkualitas tinggi bisa disimpen ing substrat (kayata silikon, sapir, silikon karbida, lsp.).

Ing peralatan MOCVD, pemanasan mocvd SIC lapisan grafit sing nyedhiyakake seragam lan stabilitas sing seragam lan stabil ing kamar reaksi suhu dhuwur, ngidini reaksi kimia gas sing dipengini ing permukaan sing diarepake ing permukaan landasan.

Pelapis vetek semikonduktor Grafit MOCVD vetek Grafit MOCHD digawe saka bahan grafit sing bermutu kanthi kualitas SIC ditutupi pemanas mocvd sic sing ditutupi panas liwat prinsip pemanasan sing resistensi.

Inti saka mesin pemanas MOCVD grafit Coating SiC yaiku substrat grafit. Saiki ditrapake liwat sumber daya eksternal, lan karakteristik resistensi grafit digunakake kanggo ngasilake panas kanggo entuk suhu dhuwur sing dibutuhake. Konduktivitas termal saka substrat grafit apik banget, sing bisa kanthi cepet nindakake panas lan kanthi rata nransfer suhu menyang kabeh permukaan pemanas. Ing wektu sing padha, lapisan sic ora mengaruhi konduktivitas termal grafit, saéngga pemanas kanggo nanggapi owah-owahan suhu kanthi cepet lan njamin distribusi suhu seragam.

Grafit murni gampang dadi oksidasi ing kahanan suhu sing dhuwur. Pelapisan SIC kanthi efektif ngisolasi grafit saka kontak langsung karo oksigen, saéngga nyegah reaksi oksidasi lan mbuwang umur pemanas. Kajaba iku, peralatan mocvd nggunakake gas sing bisa digunakake (kayata amonia, hidrogen, lan sapiturute) kanggo pemendharan uap kimia. Stabilitas kimia lapisan SIC mbisakake kanthi efektif babagan gas gas sing korosif kasebut lan nglindhungi landasan grafit.

Ing suhu sing dhuwur, bahan grafit bisa ngeculake partikel karbon, sing bakal mengaruhi kualitas pemosiman film kasebut. Aplikasi saka lapisan SIC nyegah rilis partikel karbon, saéngga proses MOCVD bakal ditindakake ing lingkungan sing resik, ngrampungake kabutuhan pabrik kanthi syarat kabersihan.

Akhire, SiC Coating grafit MOCVD mesin ingkang ndamel benter biasane dirancang ing bunder utawa wangun biasa liyane kanggo mesthekake suhu seragam ing lumahing landasan. Keseragaman suhu kritis kanggo pertumbuhan seragam film kandel, utamane ing proses pertumbuhan epitaxial MOCVD senyawa III-V kayata GaN lan InP.

Vetek semiconduktor nyedhiyakake layanan kustomisasi profesional. Kapabilitas mesin macan lan senior SIC lan nggunakake pemanas pemanas kanggo peralatan MOCVD, sing cocog kanggo peralatan mocvd paling akeh.

Properties fisik dhasar lapisan SIC CVD

VeTeK Semiconductor  SiC Coating grafit MOCVD toko pemanas