Dhukungan grafit ditutupi

Sampeyan tampi teka ing Semikonduktor Vetek Pabrik Kita kanggo tuku adol paling anyar, rega murah, lan susceptor grafite sing berkualitas tinggi. Kita ngarep-arep bisa kerja bareng karo sampeyan.

Tantalum karbida materi keramik lebur titik nganti 3880 ℃, minangka titik lebur sing apik lan stabilitas kimia sing dhuwur isih bisa njaga tahan suhu, resistensi kimia, bahan kimia sing apik Lan kompatibilitas mekanik karo bahan karbon lan karakteristik liyane, nggawe bahan lapisan pelindung pelindung grafit sing cocog. Lapisan karbida tantalum kanthi efektif bisa nglindhungi komponen grafit saka pengaruh ammonia, hydrogen lan silikon lan logam ing lingkungan sing digunakake ing komponen grafit, lan nyandhet migrasi impurities ing grafit, Nggawe kualitas epitexy lan Growth Crystal.it utamane digunakake ing proses keramik udan.

Dependinasi uap kimia (CVD) minangka cara persiapan sing paling diwasa lan optimal kanggo lapisan karbida tantalum ing permukaan grafit.

Metode Pelapisan TaC CVD kanggo Susceptor Graphite Coated TaC:

Proses lapisan kasebut nggunakake Tacl5 lan propylene minangka sumber karbon lan Source Tantalum masing-masing, lan argon minangka gas operator kanggo nggawa beluk pentachloride tantalum sawise gas reaksi sing dhuwur sawise gas reaksi. Ing suhu target lan tekanan, beluk saka prekursor materi yaiku adsorbed ing permukaan grafit, lan seri reaksi kimia sing kompleks kayata decomposition lan kombinasi sumber karbon lan sumber tantalum. Ing wektu sing padha, seri reaksi permukaan kayata penyebaran saka prekursor lan desoorption saka produk uga melu. Pungkasan, lapisan pelindung sing kandhel dibentuk ing lumahing bagean grafit, sing nglindhungi bagean grafit kasebut ora stabil ing kahanan lingkungan sing ekstrem. Skenario aplikasi saka bahan grafit berkembang kanthi signifikan.

Parameter produk saka TaC Coated Graphite Susceptor:

Toko Produksi:

Ringkesan rantai industri epitaksi chip semikonduktor: