Teknologi penyemprotan termal semikonduktor

Teknologi penyemprotan termal semikonduktor minangka proses canggih sing nyemprotake bahan ing kondisi cair utawa semi-lebur menyang permukaan substrat kanggo mbentuk lapisan. Teknologi iki akeh digunakake ing bidang manufaktur semikonduktor, utamane digunakake kanggo nggawe lapisan kanthi fungsi khusus ing permukaan substrat, kayata konduktivitas, insulasi, tahan korosi, lan tahan oksidasi. Kaluwihan utama teknologi nyemprot termal kalebu efisiensi dhuwur, kekandelan lapisan sing bisa dikontrol, lan adhesi lapisan sing apik, saengga penting banget ing proses manufaktur semikonduktor sing mbutuhake presisi lan linuwih sing dhuwur.

Aplikasi teknologi nyemprot termal ing semikonduktor

Etsa sinar plasma (etsa kering)

Biasane nuduhake panggunaan discharge cemlorot kanggo ngasilake partikel aktif plasma sing ngemot partikel sing diisi daya kayata plasma lan elektron lan atom netral lan molekul sing aktif banget kimia lan radikal bebas, sing nyebar menyang bagean sing bakal diukir, bereaksi karo materi etched, mbentuk volatil. produk lan dibusak, saéngga ngrampungake teknologi etsa transfer pola. Iku proses irreplaceable kanggo nyadari transfer dhuwur-kasetyan saka pola nggoleki saka cithakan photolithography kanggo wafer ing produksi sirkuit terpadu Ultra-gedhe-ukuran.

Akeh radikal bebas aktif kayata C lan F bakal digawe. Nalika dheweke nggunakake piranti semikonduktor, nyemprotake permukaan jero saka peralatan liyane, kalebu wesi aluminium lan bagean struktural keramik. Erosi kuwat iki ngasilake pirang-pirang partikel sing akeh, sing ora mung mbutuhake peralatan produksi sing kerep kanggo peralatan produksi, nanging uga nyebabake gagal ruangan etching lan ngrusak piranti ing kasus sing abot.

Y2O3 minangka bahan kanthi sifat kimia lan termal sing stabil banget. Titik lebur luwih dhuwur tinimbang 2400 ℃. Bisa tetep stabil ing lingkungan korosif sing kuwat. Resistance kanggo bombardment plasma bisa ngluwihi umur layanan komponen lan nyuda partikel ing kamar etching.

Solusi utama yaiku kanggo nyemprotake penurunan y2o3 sing penting kanggo nglindhungi ruangan etching lan komponen utama liyane.