E-chaur e-chuck

Minangka gallium nitride (gan) dadi bahan inti saka semikonduktor generasi katelu, aplikasi kanthi frekuensi dhuwur, dhuwur-dhuwur lan optooelectrical stasiun, kayata 5g modul dhasar lan piranti sing dipimpin lan piranti sing dipimpin. Nanging, ing proses etmonduktor, utamane ing proses etching, wafer kudu kena pengaruh lingkungan korosi kimia, lingkungan karat kimia sing dhuwur lan syarat proses tliti sing dhuwur banget kanggo menehi standar jaringan wafer.

Pallet Keramik Vetek Semikonduktor dirancang kanggo Gan Wafer Etching lan nawakake kesucian sing dhuwur, resistensi panas lan kimia kanggo ndhukung proses manufaktur sampeyan. Cocog kanggo proses plasma etching (icp / rie) lan minangka pilihan sing cocog kanggo peralatan pabrik modern.

Kekuwatan inti

1. Bahan keramik SIC dhuwur

Stabilitas Kimia: Kesucian materi luwih saka 99.5%, lan ora ana polusi kanggo gan wafer.

Hardness lan nyandhang tahan: Hardness cedhak karo berlian, bisa nggunakake frekuensi frekuensi dhuwur, owah-owahan sing ora katon.

2. Kinerja termal sing apik banget

Konduktivitas termal sing dhuwur, koefisien sing cocog karo gan-remaja (CTE): Ngurangi risiko wafer retak ing proses etching.

3. Resistensi Korosi K uwangkatan Kimia Super

Bisa mlaku kanthi konsentrasi fluorida sing dhuwur, klorida lan lingkungan gas sing cagar liyane nganti suwe.

4. Desain tliti lan mesin precision

Persatangan permukaan lan flatness njamin penempatan wafer sing lancar lan keseragaman sing bisa ditrapake kanggo syarat proses tliti tliti.

Ukuran, alur, bolongan tetep lan struktur liya bisa disesuaikan miturut syarat pelanggan.

Lapangan aplikasi e-Chuck e-Chuck SIC ditutupi

● Plasma Etching (ICP / Rie)

Nyedhiyakake fiksasi wafer lan dhukungan ing suhu dhuwur lan lingkungan karat kimia sing dhuwur, cocog kanggo proses etching gan, sic lan bahan liyane.

● Transfer wafer lan panyimpenan

Nyedhiyani platform gratis sing rata lan polusi kanggo nglindhungi keamanan wafer ing proses manufaktur.

Layanan Selaras

Vetek Somiconduktor nawakake layanan khusus kanggo nyukupi kabutuhan proses tartamtu:

● Kustomisasi ukuran: Ukuran palet bisa disesuaikan miturut ukuran wafer (Ø4 ~ 12 inci).

● Optimisasi Struktur: Dhukungan Groove, bolongan posisi, titik tetep lan kustomisasi struktur liyane.

Iku semikonduktorSIC ditutupi Produk Produk SIC Coated: