Piring etp etp

ETCH ETCH (Teknologi Plasma ElatChing) kanthi gampang digandhengake minangka proses etcation tliti ing pabrik semikonduktor, utamane cocog kanggo transfer pola semikonduktor lan kualitas tinggi, utamane cocog kanggo bolongan etching sing jero, lsp.

SemiconPiring Sic ICP etc khusus kanggo proses ICP, nggunakake bahan SIC kanthi kualitas dhuwur, lan bisa menehi kinerja sing apik banget, lan lingkungan energi sing dhuwur lan lingkungan energi lan energi sing kuat. Minangka komponen penting kanggo banter lan ndhukung,ICP ETCHpiring mesthekake stabilitas lan efisiensi sajrone proses etching.

Piring etp etpFitur Produk

● Toleransi suhu sing dhuwur

Plato etp icp etch sic bisa nahan suhu nganti 1600 ° C, njamin panggunaan stabil ing suhu icp etch etching suhu dhuwur lan ngindhari cacat.

●  Rintangan karat sing apik

Bahan karbida silikonBisa kanthi efektif nolak bahan kimia sing bisa diikat kayata fluorida hidrogen, hidrogen klorida, asam sulfat, bisa uga kapapar nalika produk kasebut ora rusak sajrone panggunaan jangka panjang.

●  Koefision ekspansi termal

Piring serang icp etp duwe koefisi ekspansi termal sing kurang, sing bisa njaga stabilitas dimensi sing apik ing lingkungan suhu dhuwur, nyuda stres lan cacat sing disebabake amarga proses etching sing akurat.

●  Hardness lan nyandhang tahan

SiC has a hardness of up to 9 Mohs hardness, which can effectively prevent mechanical wear that may occur during the etching process, extend service life, and reduce replacement frequency.

● eKondhang termal Xcellent

Konduktivitas termal sing apik banget kanggo mesthineSic TrayBisa cepet-cepet bubar kanggo proses etching, ngindhari suhu suhu lokal sing disebabake dening akumulasi panas, saéngga njamin stabilitas lan keseragaman saka etching.

Kanthi dhukungan saka tim teknis sing kuwat, tray VetekSemicon SIC etp etching wis ngrampungake macem-macem proyek angel lan menehi produk sing disesuaikan miturut kabutuhan. Kita ngarepake priksaan sampeyan.

Properties fisik dhasar saka SIC CVD: