TAC COATING Pandhuan

Fungsi Guide Pandhuan Tac:

Kontrol Aliran Gas sing tepat: IngTAC COATE Pandhuan Celanadipanggonke strategis ing sistem injeksi gas ingReaktor mocvdWaca rangkeng-. Fungsi utama yaiku ngarahake aliran gas prekursor lan njamin distribusi seragam ing permukaan wafer landasan. Kontrol sing tepat babagan dinamika aliran gas penting kanggo nggayuh wutah lapisan epitormial lan sifat-sifat materi sing dikarepake.

Manajemen termal: Cincin pandhuan lapisan sing asring dioperasikake ing suhu sing dhuwur amarga cedhak karo susceptor lan subtrasi digawe panas. Konfaktivitas termal Tac apik mbantu mbuatake panas kanthi efektif, nyegah panas sing diloklinalisasi lan njaga profil suhu stabil ing zona reaksi.

Keuntungan saka TAC ing MOCVD:

Rintangan suhu ekstrem: Tac ngrayakake salah sawijining titik leleh sing paling dhuwur ing kabeh bahan, luwih saka 3800 ° C.

Inert kimia sing pinunjul: Tac nampilake tahan sing luar biasa kanggo karat korosi lan kimia saka gas reaktif sing digunakake ing mocvd, kayata amonia, silane, lan macem-macem senyawa logam-organik.

Properties fisik sakaLapisan tac:

Mupangate kinerja mocvd:

Panganggone pandhuan detak semikonduktor tac ing peralatan MOCVD nyumbang kanthi signifikan kanggo:

Tambah peralatan nganti jam: Kekiatan lan umur dawa saka pandhuan cinger lapisan tutup TAC nyuda kabutuhan sing asring, minimalake perawatan pangopènan sistem MOCVD.

Stabilitas proses sing ditingkatake: Stabilitas termal lan inertness kimia TAC nyumbang kanggo lingkungan reaksi sing luwih stabil lan dikontrol ing kamar MOCVD, minimalake variasi proses lan nambah reproducibility.

Keseragaman Lapisan Epitalixial Apik: Kontrol Aliran Gas sing Digunakake dening Celana Coating Coating TAC njamin distribusi Prekam Seragam, nyebabake seragam bangetWutah Lapisan Epititaxialkanthi kekandelan lan komposisi sing konsisten.

Lapisan karbida tantalum (tac)ing bagean salib mikroskopis: