CVD Silicon Carbide (SiC) Coated Graphite Shower Head

Fitur Utama

• Kemurnian Ultra-dhuwur - Lapisan SiC nutupi grafit kanthi lengkap, saengga ora ana kontaminasi gas utawa logam.

• Distribusi gas banget - Saben sirah padusan machined kanggo ngirim kecepatan gas konsisten ing kabèh wafer.

• Resistance korosi unggul - CVD SiC ora nanggepi karo halogen utawa residu proses. Iku luwih suwe tinimbang grafit utawa kuarsa sing kosong.

• Kinerja termal sing luar biasa - Lapisan kasebut cocog karo ekspansi termal grafit kanthi rapet, supaya ora retak sajrone ramp suhu kanthi cepet.

• Manufaktur presisi - Kita nggunakake mesin CNC lan lapisan CVD ing omah. Dhiameter lan pola bolongan dianakake kanthi toleransi sing ketat.

Spesifikasi Teknis

Aplikasi

Kepala pancuran iki digunakake ing:

• Sistem CVD semikonduktor (produksi lan R&D)

• Peralatan PECVD – dielektrik suhu rendah

• Reaktor MOCVD – senyawa III‑V kaya GaN, InP

• Silicon epitaxy (Si Epi) - kanggo piranti daya lan CMOS

• SiC epitaxy – elektronik daya voltase dhuwur

• Fabs semikonduktor senyawa

• Kemasan canggih (contone, deposisi liner TSV)

• Sembarang alat film tipis sing mbutuhake distributor gas tahan korosi, kemurnian dhuwur

Kenapa Pilih VETEK?

• Kita dudu perusahaan dagang. Kabeh - saka mesin grafit nganti lapisan CVD SiC pungkasan - ditindakake ing omah. Tegese kita ngontrol kualitas, wektu timbal, lan biaya.

• Manufaktur in-house lengkap - ora ana kejutan outsourcing

• Teknologi lapisan canggih – CVD SiC sing padhet, tanpa bolongan pin

• Dhukungan teknik khusus - kirim gambar sirah padusan utawa mung model reaktor

• Rantai pasokan semikonduktor sing bisa dipercaya - kita wis nyediakake pabrik lan OEM pirang-pirang taun

• Sampeyan ora kudu nggawe kualifikasi anyar saben wektu. Kita wis ditutupi sirah padusan kanggo akeh platform umum (AMAT, TEL, LAM, ASM, etc.).