Pabrik paling dhuwur ing China-Vetek Semiconductor nggabungake mesin presisi lan kemampuan lapisan semikonduktor SiC lan TaC. Jinis tong minyak Si Epi Susceptor nyedhiyakake kemampuan kontrol suhu lan atmosfer, ningkatake efisiensi produksi ing proses pertumbuhan epitaxial semikonduktor. Looking nerusake kanggo nyetel hubungan kerjasama karo sampeyan.
Ing ngisor iki yaiku introduksi kualitas Susceptor EPi sing dhuwur, ngarep-arep bisa mbantu sampeyan luwih ngerti babagan Tipe Laras Si Epi Susceptor. Sugeng pelanggan anyar lan lawas supaya terus kerja bareng karo kita kanggo nggawe masa depan sing luwih apik!
Reaktor Epitaxial minangka piranti khusus sing digunakake kanggo pertumbuhan epitaxial ing manufaktur semikonduktor. Barrel Type Si Epi Susceptor menehi lingkungan sing ngontrol suhu, atmosfer lan paramèter tombol liyane kanggo simpenan lapisan kristal anyar ing lumahing wafer.
Kauntungan utama ing tongkang Tipe Susceptor yaiku kemampuan kanggo ngolah macem-macem Kripik kanthi bebarengan, sing nambah efisiensi produksi. Biasane duwe pirang-pirang gabung utawa clamp kanggo nyekel macem-macem wafers supaya pirang-pirang wafer bisa ditanam ing wektu sing padha ing siklus wutah sing padha. Fitur udara sing dhuwur iki nyuda siklus produksi lan biaya lan nambah efisiensi produksi.
Kajaba iku, jinis laras Si Eli Susceptor nawakake suhu sing dioptimalake lan kontrol swasana. Iki dilengkapi sistem kontrol suhu sing luwih maju sing bisa ngontrol lan njaga suhu tuwuhing sing dikarepake. Ing wektu sing padha, nyedhiyakake kontrol suasana sing apik, mesthekake yen chip thukul ing kahanan suasana sing padha. Iki mbantu nggayuh wutah lapisan epitormial lan nambah kualitas lan konsistensi lapisan epitoxial.
Ing Barrel Type Si Epi Susceptor, chip biasane entuk distribusi suhu seragam lan transfer panas liwat aliran udara utawa aliran Cairan. Distribusi suhu seragam iki mbantu nyegah pembentukan titik panas lan gradien suhu, saéngga nambah keseragaman lapisan epitaxial.
Kauntungan liyane yaiku jinis tong lan Eli Susceptor nyedhiyakake fleksibilitas lan skalabilitas. Bisa diatur lan dioptimalake kanggo macem-macem bahan epitoxial, ukuran chip lan paramèter. Iki ngidini peneliti lan insinyur kanggo nindakake pangembangan proses lan optimisasi kanggo nyukupi kabutuhan wutah epitoxial kanggo macem-macem aplikasi lan syarat sing beda-beda.
For inquiries about Silicon Carbide Coating, Tantalum Carbide Coating, Special Graphite or price list, please leave your email to us and we will be in touch within 24 hours.
Kita nggunakake cookie kanggo menehi pengalaman browsing sing luwih apik, nganalisa lalu lintas situs lan nggawe konten pribadi. Kanthi nggunakake situs iki, sampeyan setuju kanggo nggunakake cookie. Kebijakan Privasi