Effektur End End Effektur Wafer

Effektur End Wefer yaiku jinis robot sing dirancang khusus kanggo industri semikonduktor, biasane digunakake kanggo nangani lan transferWafersWaca rangkeng-. Lingkungan produksi wafers mbutuhake kabersihan sing dhuwur banget, amarga partikel cilik utawa rereged bisa nyebabake kripik gagal nalika diproses. 

Bahan keramik digunakake ing pabrik tangan kasebut amarga sifat fisik lan kimia sing apik banget.

Kesucian lan komposisi

Kemurnian alumina biasane ≥99,9%, lan impurities logam (kayata MgO, Cao, Sio, Sio, Sio₂) dikendhaleni ing 0,05% kanggo nambah resistensi etching.

A α-phase Alumina (struktur corundum) yaiku utama, kapadhetan kasebut yaiku 3.98 g / cm³, lan kapadhetan nyata sawise nyerat yaiku 3,6 ~ 3.9 g / cm³.

Properti Mekanikal

Hardness: Moh Hardness 9 ~ 9.5, Vickers Hardness 1800 ~ 2100 HV, luwih dhuwur tinimbang stainless steel lan wesi.

Kekuwatan mbengkongake: 300 ~ 400 MPA, sing bisa tahan stres mekanik saka penanganan wafer sing dhuwur.

Modulus elastis: 380 ~ 400 GPA, kanggo mesthekake yen lengen sing kenceng lan ora gampang dielingi.

Properti termal lan listrik

Konduktivitas termal: 20 ~ 30 w / (m · k), isih njaga insulasi stabil (resmivity> 10¹⁴ · cm).

Rintangan suhu: Suhu panggunaan jangka panjang bisa tekan 850 ~ 1300 ℃, cocog kanggo lingkungan suhu dhuwur vakum.

Karakteristik Surat

Persatangan permukaan: Ra≤ 0.2μm (sawise polish) kanggo ngindhari goresan wafer

Poresan Adsorption Vacuum: Struktur kothong sing diraih dening porosity, porosity <0,5%.

Fitur desain struktural, struktural

Optimization sing entheng lan kekuatan

Nggunakake proses cetakan terintegrasi, bobote mung 1/3 lengen logam, nyuda kesalahan posisi sing disebabake dening inersia.

EXTLEFT EXPECTH Dirancang minangka gangguan gripper utawa lumahing diinstal, lan permukaan kontak dilapisi nganggo lapisan antisatik kanggo nyegah wafer saka kontaminasi 710 kanthi produsen elektrostatik.

Rintangan polusi

Alumina sing penting banget ing kimia, ora ngeculake ion logam, lan memenuhi standar kabersihan semi F47 (polusi partikel <10 ppm).

Syarat proses kaping telu, manufaktur

Mbentuk lan gawe dosa

Tekan Isostik (Tekanan 200 ~ 300 MPA) kanggo njamin kepadatan materi> 99.5%.

Sinter suhu dhuwur (1600 ~ 1800 ℃), kontrol ukuran gandum ing 1 ~ 5μm kanggo ngimbangi kekuatan lan kekarepan.

Mesin presisi

Pangolahan Grinding Diamond, akurasi Dimensional ± 0,01mm, flatness ≤ 0,05mm / m

Semicon Toko Produk: