Nozzle Keramik Semikonduktor

Nozzle Keramik Semikonduktor nduweni peran penting ingProses HDP-CVD, digunakake kanggo ngontrol aliran gas lan mesthekakeDeposisi film berkualitas tinggiWaca rangkeng-. Semprotan keramik kanthi tepat direkayasa kanggo njamin tarif gas sing konsisten lan bisa dicenthang, minimalake kemul nalika gas mlebu ruangan reaksi.

Spesifikasi Teknis:

1. KomposisimateriMaterial:

VeTeK Semiconductor Ceramic sand blasting nozzle biasane digawe saka keramik Semikonduktor kayata aluminium oksida (Al2O3),silikon karbida (sic), utawa zirkonium oksida (ZrO2), bahan kasebut nduweni sifat sing apik banget:

    • stabil termal sing dhuwur (bisa tahan suhu ing ndhuwur 1000 ℃)

    • resistance kanggo karat dening gas reaktif digunakake ingpangolahan CVD(kayata silane, amonia)

    • resistance kanggo terus plasma cahya.

2. Rancangan Struktur:

    • Ukuran Orifice: Orifice saka nozzle keramik Semikonduktor dirancang kanthi ilmiah kanggo ngaktifake kontrol aliran gas sing tepat, sing uga mengaruhi keseragaman lan kekandelan film.

    • Sudut lan geometri: dirancang kanthi tepat kanggo njamin distribusi gas seragam ing landasan, minimalake cacat ing lapisan sing setor.

Ing industri semikonduktor, nozzle jeblugan keramik Semikonduktor nduweni peran penting utamane ing proses HDP-CVD. Padha uga digunakake kanggo nyimpen film tipis kanggo produksi microelectronics, njamin lapisan lumahing kualitas dhuwur sing seragam lan bebas saka rereged.

Toko Vetek Semikonduktor Toko Nozz: