Tantalum karbida teknologi turnamen, polusi epitarial sic suda kanthi 75%?

Bubar, Institut Penelitian Jerman Frasilhofer IISB wis nggawe terobosan ing riset lan pangembanganteknologi lapisan karbida tantalum, lan ngembangake solusi lapisan semprotan sing luwih fleksibel lan ramah lingkungan tinimbang solusi deposisi CVD, lan wis dikonsili.

Lan rosoktor vetek domestik uga nggawe terobosan ing lapangan iki, bukak ing ngisor iki kanggo rincian.

Fraunhofer IISB:

Ngembangake teknologi lapisan tAC anyar

Tanggal 5 Maret, miturut media "Senmikonduktor senyawa", Fraunhofer IISB wis nerbitake anyarteknologi lapisan tantalum (Tac) lapisan-Taccotta. Lisensi teknologi wis ditransfer menyang Nippon Kornheyer Group Carbon (NKCG), lan NKCG wis diwiwiti nyedhiyakake bagean grafit sing dilapisi kanggo para pelanggan.

Cara tradisional ngasilake lapisan lapisan ing industri yaiku Dependisi uap kimia (CVD), sing ngadhepi kekurangan kayata biaya manufaktur dhuwur lan kaping pangiriman sing dawa. Kajaba iku, cara CVD uga gampang retak TAC sajrone pemenang lan pendinginan bola-bali. Retak kasebut mbabarake grafit sing ndasari, sing ngrusak banget sajrone wektu lan kudu diganti.

Inovasi Taccotta yaiku nggunakake cara lapisan lapisan lapisan basis banyu sing diikuti perawatan suhu kanggo mbentuk lapisan tAC kanthi stabil mekanik sing dhuwur lan kekandelan sing bisa diatur ingGrafis GrafisWaca rangkeng-. Kekandelan lapisan bisa diatur saka 20 mikron nganti 200 mikron kanggo cocog karo syarat aplikasi sing beda.

Teknologi proses Tac sing dikembangake dening Fraunhofer IISB bisa nyetel sifat lapisan sing dibutuhake, kayata kekandelan, kaya sing ditampilake ing ngisor iki ing 35μm dadi 110 μm.

Spesialisasi, lapisan semprotan taccotta uga duwe fitur lan kaluwihan kunci ing ngisor iki:

● luwih ramah lingkungan: Kanthi lapisan semprotan berbasis banyu, cara iki luwih ramah lan grapyak ing industrial;

● Keluwesan: Teknologi Tactta bisa adaptasi karo komponen macem-macem ukuran lan geometri, saéngga perubahan lapisan lan komponen komponen, sing ora bisa ing CVD.

● Ngurangi polusi tantalum suda: komponen grafit kanthi lapisan taccotta digunakake ing pabrik epitarixial sic dikurangi dening 75% dibandhingake karo wis anaCoverings CVD.

● Rintangan nyandhang: Tampilake uji coba sing nambah ketebalan lapisan bisa nambah resistensi nyandhang.

Tes Ngeruk

Dilaporake manawa teknologi wis dipromosikake kanggo komersium kanthi NKCG, usaha bareng sing fokus ing nyedhiyakake bahan grafit kanthi kinerja lan produk sing gegandhengan. NKCG uga bakal melu ngembangake teknologi Taccotta kanggo wektu sing suwe. Perusahaan iki wiwit menehi komponen grafit adhedhasar teknologi Tactta menyang pelanggan.

Semikonduktor Vetek promosi lokalisasi TAC

Ing awal 2023, dokter vetek semikonduktor ngluncurake generasi anyarWutah Kristal SICBahan lapangan termal-Porous Tantalum Carbide.

Miturut laporan, vetek semikonduktor wis ngluncurake terobosan ing pangembanganPorous Tantalum Carbidekanthi keruwetan gedhe liwat riset lan pangembangan teknologi mandiri. Kerosit kasebut bisa nganti 75%, entuk pimpinan internasional.