Pemanas Grafis Craction Carbide Carbide Carbide

Iku semikonduktor Pemanas Grafis Craction Carbide Carbide CarbideGabungan konduktivitas listrik listrik lan termal sing apik banget karo resistensi suhu sing dhuwur, resistensi korosi lan nyandhang lingkungan pabrik kerak karbon silikon. 

Pemanas Grafis Craction Carbide Carbide CarbideDigunakake utamane ing peralatan vakum (penyuapan), lan cara sing digunakake yaiku PCD (plasma pangatusan kimia) lan PVD (deposisi beluk fisik). Produk iki nduweni peran penting kanggo promosi kemajuan teknologi lan nambah efisiensi produksi ing industri semikonduktor.Kita tulus ngarep-arep luwih kerjasama karo sampeyan.

Fitur material lan struktural saka mesin pemanasan catera keramik lapisan cabih seram:

Grafis Grafis: Graphite dikenal kanthi konduktivitas termal lan koefisien ekspansi termal sing kurang. Bisa nanggapi owah-owahan suhu kanthi cepet lan njaga stabilitas struktural ing suhu sing dhuwur.

Silicon carbon ceramic coating: Pelapisan SIC dilapisi kanthi merata ing permukaan grafit liwat deposisi uap kimia utawa proses maju liyane. SIC duwe kekerasan kimia sing dhuwur banget lan tahan karat kimia, sing bisa nglindhungi landasan grafit saka oksidasi suhu dhuwur lan lingkungan sing bisa diombe.

Desain struktural produk khusus Silicon Caramic Coating Grape Graphite nemtokake pemanasanKeuntungan produk sing ora bisa diganti saka produk iki ing proses pangolahan semikonduktor:

Pemanasan sing efisien lan seragam:

Konduktivitas termal: Konduktivitas termal saka grafit sing dhuwur ndadekake pemanas kanggo nggayuh kanthi cepet lan njaga suhu sing dibutuhake, lan lapisan SIC njamin distribusi panas seragam. Iki penting kanggo proses semikonduktor sing mbutuhake kontrol suhu sing tepat, kayata proses termal kanthi cepet (RTP) lan deposisi uap kimia (CVD).

Kesataman suhu: Liwat distribusi panas sing seragam, pemanasan lapisan keramik lapisan keramik carbide carbide, bisa nyuda stres stres lan gradient kanthi efektif, njamin konsistensional lan kualitas celana saka proses pemanasan.

Perlindhungan anti-korosi:

Rintangan kimia: Rintangan koroak kimia saka lapisan SIC mbisakake pemanas kanggo ngoperasikake kanthi apik lan suwe banget ing gas korosif lan lingkungan kimia, ngindhari substrat grafit. Fitur iki kritis ing proses kayata deposisi uap kimia (CVD) lan plasma nambah deposisi uap kimia (PECVD).

Rintangan oksidasi: Ing suhu sing dhuwur, lapisan SIC bisa nyegah oksidasi landasan landasan grafit, nglanjutake layanan urip pemanas, lan nyuda frekuensi lan biaya pangopènan peralatan.

Ngurangi kontaminasi partikel:

Stabilitas permukaan: Pelapisan SIC ora mung tahan tahan, nanging uga nyegah partikel saka permukaan materi amarga reaksi termal, sanajan nyuda resiko kontaminasi partikel sing kabersihan.

Ngapikake linuwih lan efisiensi proses:

Desain dawa: Amarga kombinasi kekuwatan mekanik grafit lan resistensi nyandhang saka lapisan lapisan keramik Celamen kanthi dawa ing kahanan proses sing luwih dawa bisa ningkatake linuwih peralatan.

Panggunaan energi sing efisien: Konduktivitas termal grafit sing dhuwur lan stabilitas suhu lapisan sic bisa ngaktifake pemanas kanggo nyuda panggunaan energi nalika nambah efisiensi saka produksi semikonduktor.

Properti fisik dhasar sakaPemanas Grafis Craction Carbide Carbide Carbide:

Iku semikonduktorPemanas Grafis Craction Carbide Carbide CarbideToko:

Ringkesan Rantai Industri Semikonduktor Chip Epitoxy:

/ Liyane-Proses