Apa kapal kwarsa?

Boat Quartz minangka komponen prewangan utama sing digunakake ing proses manufaktur semikonduktor, utamane digunakake kanggo pangolahan suhu sing dhuwur, kayata panyebaran, oksidasi lan annealing. Stabilitas termal sing apik banget, ciri polusi sing kurang lan resistensi karat nggawe bahan sing penting ing industri semikonduktor. Artikel iki bakal njlentrehake babagan materi, klasifikasi, skenario aplikasi lan bedane antara kapal quartz kapal lan prau grafit PEVVD.

ⅠWaca rangkeng-. Bahan saka kapal kwarsa

Komponen utama pembaruan kuarasi dioksida (Sio₂), lan kemurnian biasane kudu luwih saka 99.99% (kelas semikonduktor). Bahan kuarsi sing dhuwur banget iki mesthekake yen operator kuarza ora bakal ngenalake impurities sajrone proses manufaktur semikonduktor kanggo nyuda kontaminasi impurities logam ing wafer.

Miturut proses persiapan, bahan kwarsa bisa dipérang dadi rong kategori:

● kuarsa alami: Digawe saka pemurnian kristal, kanthi konten hidroksil sing dhuwur (udakara 100-200 ppm), biaya murah, nanging toleransi sing ringkih nganti owah-owahan dadakan suhu sing dhuwur.

● kuarsa sintetis: disintesis dening deposisi uap kimia (CVD) utawa egois, kanthi isi hidroksional (-Oh) rendah, stabilitas termal sing luwih apik, lan cocog kanggo proses suhu dhuwur (kayata oksidasi).

Kajaba iku, sawetara kapal kuarza sing diluncurake karo logam kayata Titanium (TI) utawa aluminium (AL) kanggo nambah resistensi deformasi, utawa nyetel transmittance sing cocog kanggo nyukupi kabutuhan proses UV.

ⅡWaca rangkeng-. Apa sipat fisik kapal quartz sing utama?

● Rintangan suhu dhuwur: Titik lebur saka kuarsa paling dhuwur ing 1713 ° C, lan bisa mlaku kanthi jarak 1200 ° C nganti suwe lan tahan 1500 ° C kanggo wektu sing cendhak.

● Koefision ekspansi termal sing kurang: Coofisi ekspansi termal yaiku 0.55 × 10⁻⁶ / ° C. Kinerja sing apik banget njamin stabilitas dimensi ing suhu sing dhuwur lan ngindhari cracking amarga stres termal.

● kimia inertness: Kajaba kanggo asam hidrofluoric (HF) lan asam phosphoric panas, kuarsa bisa nolak asam sing kuwat, alkali kuwat lan gas sing paling kuat (kayata, gas, kayata).

● Insulasi listrik: Kawicaksanan paling dhuwur 10 · cm, ngindhari gangguan karo distribusi lapangan listrik saka proses plasma.

● Cahya Transmittance: Transmittance apik banget ing ultraviolet menyang band inframerah (> 90%), cocok kanggo proses sing dibantu sing dibantu (kayata curing ultraviolet).

III. Klasifikasi kapal kwarsa

Miturut struktur desain sing beda lan skenario panggunaan, kapal kwarsa bisa dipérang dadi kategori:

● prau kuarsa horisontal

Ditrapake kanggo tungku tabung horisontal (tungku sing beda horisontal), digunakake kanggo oksidasi, panyebaran, panyebaran lan proses liyane.

Fitur: Bisa nggawa 100-200 wafers, biasane kanthi desain sing mbukak utawa semi-terlampir.

● prau quartz vertikal

Ditrapake kanggo tungku vertikal (tungku vertikal), digunakake kanggo proses lpcvd, proses oksidasi lan panyampur.

Fitur: Struktur kompak sing luwih akeh, bisa nambah kapasitas wafer, lan nyuda kontaminasi partikel sajrone proses kasebut.

● Kapal kntz sing disesuaikan

Dirancang miturut syarat proses, dhukungan wafer siji utawa struktur clamping khusus bisa digunakake kanggo ngoptimalake efek pangolahan wafer.

Minangka produsen kapal kwarsa kuarza lan supplier ing China,VetekSemomemon bisa ngrancang lan ngasilake produk operator kuarza kuarza khusus miturut kabutuhan nyata. Kanggo rincian produk liyane, waca:

IV. Apa skenario aplikasi saka kapal kwarsa ing pabrik semikonduktor?

Kapal kwarna digunakake ing pirang-pirang proses kunci sing perlu saka manufaktur semikonduktor, utamane kalebu skenario aplikasi ing ngisor iki:

4.1 oksidasi termal

● Katrangan Proses: wafer digawe panas ing oksigen kanthi suhu sing dhuwur utawa banyu uap kanggo mbentuk film silikida dioxide (sio₂).

● Fitur kapal kwarsa:

1) Rintangan panas sing dhuwur, bisa tahan suhu sing dhuwur saka 1000 ~ 1200 ° C.

2) Kapal kimia, kapal kuarza tahan asam sing kuwat, alkali kuat lan gas sing paling kuat, saengga bisa ngindhari kualitas film oksida.

4,2 Proses Penyebaran

● Proses Deskripsi: Imperensi (kayata fosfor lan boron) nyebar menyang silikon wafer ing kahanan suhu dhuwur kanggo mbentuk lapisan doping.

● Fitur Boat Quartz:

1) kontaminasi rendah, nyegah kontaminasi logam saka mengaruhi distribusi konsentrasi doping.

2) stabilitas termal, kanthi koefision ekspansi termal mung 0,55 × 10⁻⁶ / ° C, kanggo njamin proses penyebaran seragam.

4.3 Proses Annealing

● Katrangan Proses: Perawatan suhu dhuwur digunakake kanggo mbusak stres, nambah struktur kristal materi, utawa ngaktifake lapisan implantasi ion.

● Fitur Boat Quartz:

1) Kanthi titik lebur kaya 1713 ° C, bisa uga bisa njaga pemanasan kanthi cepet lan adhem supaya ora bisa nyingkirake kanthi stres termal.

2) Kontrol ukuran sing tepat kanggo njamin pemanasan seragam.

4.4 Depektedi uap kimia tekanan meksa (lpcvd)

● Katrangan Proses: Ing lingkungan tekanan rendah, film tipis seragam kayata silikon nitrida (sięn₄) dibentuk liwat reaksi fase gas.

● Fitur kapal kwarsa:

1) Cocog kanggo tabung tungku vertikal, bisa ngoptimalake kesuburan pemintahan film.

2) kontaminasi partikel sing murah, ningkatake kualitas film.

ⅤWaca rangkeng-. Apa bedane antarane kapal kwarsa lan kapal grafit pecvd?

Skenario Bedung Khas:

● Proses pecvd: Boat grafit bisa ngoptimalake keseragaman plasma amarga kinerja suhu dhuwur, lan ora mbutuhake kinerja suhu sing dhuwur saka kuarsa ing lingkungan suhu sing kurang (300-400 ° C).

● Tungku oksidasi suhu dhuwur: Boat kwarsa vetekmomemicon ora bisa dibatalake kanggo resistensi suhu sing dhuwur, nalika grafit gampang dioksidasi kanggo ngasilake CO / co₂ suhu ing lingkungan oksigen, sing ngrusak kamar.