Piring keramik karbida karat karbida (SIC): Bahan kinerja ing Pabrik Semikonduktor

Ⅰ. Apa piring keramik sing keropos?

Piring keramik karbida karbida karbida yaiku materi keramik struktur keramik digawe saka proses silikon (kayata foaming, nyithak 3D utawa nambah agen sing dibentuk). Fitur inti kalebu:

● Kontrol: 30% -70% luwes kanggo nyukupi kabutuhan skenario aplikasi sing beda.

● Distribusi ukuran sing seragam: Mesthekake stabilitas gas / cairan.

● Desain sing entheng: Ngurangi panggunaan energi peralatan lan nambah efisiensi operasi.

Ⅱ.five sifat fisik lan nilai pangguna piring keramik porous

1. Rintangan suhu dhuwur lan manajemen termal (utamane kanggo ngatasi masalah kegagalan termal)

● Rintangan suhu ekstrem: Suhu kerja terus nganti 1600 ° C (30% luwih dhuwur tinimbang keramik Alumina).

● Konduktivitas termal efisiensi dhuwur: Koefision konduktivitas termal yaiku 120 w / (m · k), dissipasi panas cepet nglindhungi komponen sensitif.

● Ekspansi termal sing kurang: Koefisi ekspansi termal yaiku mung 4.0 × 10⁻⁶ / ° C, cocog kanggo operasi ing suhu sing ekstrem, kanthi efektif ngindhari deformasi suhu dhuwur.

2. Stabilitas Kimia (Ngurangi Biaya Maintenance ing lingkungan Korrosive)

● Tahan kanggo asam lan alkali: bisa nahan media corrosive kayata HF lan h₂so₄

● Tahan kanggo erosi plasma: Urip ing peralatan etching garing tambah luwih saka 3 kaping

3. Kekuwatan mekanik (ngluwihi peralatan

● Hardness sing dhuwur: Kekayaan Mohs paling dhuwur yaiku 9.2, lan resistensi nyandhang luwih becik tinimbang stainless steel

● Kekuwatan mbengkongake: 300-400 MPA, nyengkuyung wafers tanpa perang

4. Functialisasi Struktur Porous (ngasilake proses proses)

● Distribusi gas seragam: Keseragaman film proses CVD tambah dadi 98%.

● Kontrol Adsorption sing tepat: Akurasi posisi saka elekrostatik chuck (ESC) udakara ± 0,01mm.

5. Jaminan Pembersihan (selaras karo standar kelas semikonduktor)

● Kontaminasi Logam Zero: Kemurnian> 99,99%, ngindhari kontaminasi wafer

● Karakter ngresiki dhewe: Struktur mikrosoprous nyuda pemendapan partikel

III. Sekawan aplikasi utama Piring Sik Pabrik ing Pabrik Semikonduktor

Skenario 1: Peralatan proses suhu (peralatan bedhil / tungku annealing)

● titik nyeri pangguna: Bahan tradisional gampang cacat, nyebabake scraping wafer

● solusi: Minangka piring operator, bisa digunakake kanthi ukuran 1200 °

● Perbandingan data: Buatan termal yaiku 80% luwih murah tinimbang alumina

Skenario 2: Depeksi uap kimia (CVD)

● titik nyeri pangguna: Distribusi gas sing ora rata mengaruhi kualitas film

● solusi: Struktur keropos nggawe seragam panyebaran gas Reaksi tekan 95%

● Kasus industri: Ditrapake kanggo memori film nand flash tipis

Skenario 3: Peralatan Etching garing

● titik nyeri pangguna: Sho plasma shoUrip Komponen Rtens

● solusi: Kinerja anti-plasma ngluwihi siklus pangopènan nganti 12 wulan

● efektifitas biaya: Downtime peralatan dikurangi 40%

Skenario 4: Sistem Pembersihan Wafer

● titik nyeri pangguna: Sering pengganti bagean amarga korosi asam lan alkali

● solusi: Rintangan asam HF nggawe urip layanan nganti luwih saka 5 taun

● Data verifikasi: Tingkat Penylametan Kekupan> 90% sawise reresik 1000 siklus reresik

IV. 3 Keuntungan pemilihan utama dibandhingake karo bahan tradisional

V. FAQ kanggo pangguna industri

Q1: Apa piring keramik keropos cocog kanggo produksi piranti Gallium Nitride (Gan)?

Wangsulan: Ya, resistensi suhu sing dhuwur lan konduktivitas termal cocog kanggo proses wutah Epitoxial lan wis ditrapake kanggo manufaktur chip stasiun 5g.

Q2: Cara milih parameter pososial?

Wangsulan: Pilih miturut skenario aplikasi:

● Distribut gastion: 40% -50% porositas mbukak disaranake

● Adsorption Vacuum: 60% -70% porositas dhuwur disaranake

Q3: Apa bedane karo keramik karbida liyane silikon?

Wangsulan: Dibandhingake karo kandhelKeramik SIC, strak sing kerem duwe kaluwihan ing ngisor iki:

● Pengurangan bobot 50%

● 20 kaping Tambah area permukaan tartamtu

● 30% pengurangan stres termal