Produk

Yen sampeyan wis nate ngatasi aliran gas sing ora rata utawa kontaminasi partikel ing kamar deposisi, VETEK CVD SiC Coated Graphite Shower Head dirancang kanggo ngatasi. Diwiwiti karo grafit isostatik kemurnian dhuwur kanggo stabilitas termal lan mesin sing gampang, banjur entuk lapisan CVD Silicon Carbide (SiC) sing padhet sing nutupi permukaan, tahan gas korosif (kayata HCl utawa NF₃), lan nyegah outgassing. Asilé yaiku piring distribusi gas sing ngirim aliran seragam ngliwati wafer, nangani epitaksi suhu dhuwur, lan tahan luwih dawa tinimbang grafit utawa kuarsa kosong - dadi komponen sing dipercaya kanggo proses CVD, PECVD, MOCVD, silikon epitaksi, lan epitaksi SiC. Kita uga nawakake pola lan ukuran bolongan khusus, amarga ora ana rong reaktor sing padha.

VeTek Semiconductor High Purity Silicon Carbide (SiC) Powder dikembangake khusus kanggo pertumbuhan kristal SiC, bahan semikonduktor, lan aplikasi keramik canggih. Liwat teknologi pemurnian majeng lan kontrol kualitas sing ketat, bubuk SiC kita nawakake tingkat impurity ultra-rendah, distribusi partikel stabil, lan konsistensi banget kanggo proses manufaktur sing nuntut.

Ing persiyapan wutah kristal SiC PVT, bagean grafit ditindakake kanthi suhu sing dhuwur banget kanggo wektu sing suwe. Dering grafit sing dilapisi PyC VeTek dibangun kanggo tugas kasebut. Lapisan karbon pirolitik bakal disimpen ing grafit kemurnian dhuwur liwat CVD. Iki menehi stabilitas permukaan sing luwih apik lan partikel sing luwih sithik nalika operasi. Sampeyan biasane dilebokake ing area lapangan termal kanggo mbantu ngatur aliran uap lan carane panas nyebar ing tungku. Lapisan kasebut uga nyepetake sublimasi grafit nalika suhu luwih saka 2200 ° C, sing ndadekake kabeh komponen luwih suwe.

Dirancang kanggo ngubengi zona pelacakan wafer, Solid SiC Focus Ring njamin distribusi plasma linier lan profil etch pinggir-kanggo-tengah sing tepat. Komponen β-SiC premium iki dibangun dening Vetek Semiconductor (Wuyi Tianyao New Material Technology Co., LTD) nggunakake teknologi Deposition Uap Kimia (CVD) proprietary. Kanthi nguap bahan mentah dadi matriks sing padhet lan tanpa binder, Vetek ngilangi celah mikro keropos sing umum ing bahan lawas. Dibandhingake karo perisai kuarsa utawa silikon standar, komponen CVD SiC kita luwih apik kanggo gas halogen korosif, nglindhungi wafer ing logika sub-7nm jero lan manufaktur chip memori sing padhet.

Iki AMAT 0200-03201 Wafer Lift Pin saka VeTek diwiwiti kanthi grafit kemurnian dhuwur, banjur kita nambah lapisan CVD SiC sing padhet ing ndhuwur. Iki digawe kanggo sistem epitaksi 300mm lan reaktor EPI Bahan Terapan. Kenapa grafit lan SiC? Grafit nangani panas banget. Lapisan SiC njupuk gas korosif lan ora cepet rusak. Desain tembok tipis? Iki kanggo ngangkat wafer lan posisi sing luwih resik, partikel sing luwih sithik, lan umur sing luwih dawa ing suhu dhuwur. Kita uga nggawe bagean grafit sing dilapisi SiC sing padha kanggo sistem ASM, Aixtron, lan LPE. Looking nerusake kanggo pitakonan Panjenengan.

Vetek Semiconductor nggawe operator wafer kanggo sistem VEECO MOCVD, dibangun khusus kanggo karya epitaksi LED kaya LED GaN, LED biru-ijo, lan pertumbuhan LED UV jero. Operator kasebut diwiwiti kanthi grafit kemurnian dhuwur lan entuk lapisan silikon karbida (SiC) CVD sing padhet. Kombinasi kasebut bisa tahan ing suhu dhuwur sing sampeyan deleng ing MOCVD - stabilitas termal sing apik, tahan karat, lan lapisan tahan.