Telung Grafit Grafis Semikonduktor Three-Petal Semikonduktor digawe digawe saka materi grafit grafiten sing diproses dening lapisan karbon pyrolytik, sing digunakake kanggo narik kolom termal kristal. Dibandhingake karo tradisional tradisional, struktur desain telung lobe luwih trep kanggo nginstal lan mbubarake, nambah efisiensi karya, lan impurities ing ngisor 5pp bisa nyukupi aplikasi industri semikonduktor lan industri fotovalta.
Telung petual petal petal ing Semikonduktor Dirancang kanggo proses wutah silikon monocrystalline dening metode CZ, struktur telu-petualy grafit digawe saka bahan grafit grafites sing ana. Liwat struktur telung petual sing inovatif, salib tradisional tradisional bisa ngatasi kesulitan sing ora bisa dibubarake, konsentrasi stres stress termal lan lega banget digunakake ing wafers silikon fotovolta, Waffontering Silicon liyane.
Sorotan proses inti
1. Teknologi pangolahan grafit grafit Ultra-tliti
Kesucian materi: Panganggone substrat grafit grafit sing dipencetake isosatik karo isi awu <5ppm yen dibutuhake lan umume <10ppm kanggo njamin polusi nol ing proses lebur silikon
Ngrampungake struktural: sawise diklumpukake ing 2200 ℃, Kekuwatan mbengkongake yaiku ≥45MPA, lan koefisien ekspansi termal yaiku ≤4.6 × 10⁻⁶ / ℃
Perawatan lumahing: lapisan karbon pirroyetik 10-15μm disimpen dening proses CVD kanggo nambah resistensi oksidasi (bobot awak mudhun <1.5%/100h@1600℃).
2. Desain struktur telu petual
Majelis Modular: 120 ip peralatan peralatan telung-lobe Struktur, Instalasi lan efisiensi pembuangan tambah 300%
Desain pembebaran stres: Struktur pamisah kanthi efektif nyebar stres ekspansi termal lan ngluwihi layanan kasebut luwih saka 200 siklus
Precision Fit: Gap ing antarane katup yaiku <0.1mm, lan adesif keramik suhu sing dhuwur njamin bocor nol ing proses lebur silikon
3 .. Layanan Processing Selaras
Dhukungan φ16 "-º40" Kustomisasi Ukuran lengkap, kontrol toleransi tembok ± 0.5mm
Struktur Kapal Kapadhetan 1.83G / CM³ bisa dipilih kanggo ngoptimalake distribusi lapangan termal
Nyedhiyakake proses tambahan sing ditambahake kayata lapisan lapisan komposit Boron Nitride lan ngiyatake logam rhenium
Skenario aplikasi khas
Industri Photovoltaic
Gambar Mocrrystalline Rod Langsung: Cocog kanggo Produksi Gedhe Silicon Wafer Silicon Wafer, Dhukungan Kapasitas ≥500kg
For inquiries about Silicon Carbide Coating, Tantalum Carbide Coating, Special Graphite or price list, please leave your email to us and we will be in touch within 24 hours.
Kita nggunakake cookie kanggo menehi pengalaman browsing sing luwih apik, nganalisa lalu lintas situs lan nggawe konten pribadi. Kanthi nggunakake situs iki, sampeyan setuju kanggo nggunakake cookie. Kebijakan Privasi