Kabar

Apa Lapisan Tantalum Carbide (TaC)? Properti, CVD & Aplikasi

Apa itu Tantalum carbide (TaC)?


Lapisan Tantalum carbide (TaC) minangka lapisan protèktif keramik suhu dhuwur sing ditrapake kanggo grafit lan komponen adhedhasar karbon sing dipilih. Ing manufaktur semikonduktor, lapisan CVD TaC digunakake kanggo nglindhungi tungku kritis lan bagean reaktor ing aplikasi sing nuntut, kalebu pertumbuhan kristal tunggal SiC lan pangolahan epitaxial. Kinerja lapisan gumantung saka mikrostruktur, kemurnian, kekandelan, adhesi lan kompatibilitas karo lingkungan operasi.


Sifat fisik dhasar saka lapisan TaC
Kapadhetan
14,3 (g/cm³)
Emisivitas spesifik
0.3
Koefisien ekspansi termal
6.3*10-6/K
Kekerasan (HK)
2000 HK
Resistance
1 × 10-5 Ohm * cm
Stabilitas termal
<2500 ℃
owah-owahan ukuran grafit
-10~-20um
Ketebalan lapisan
≥20um nilai khas (35um±10um)
Konduktivitas termal
9-22 (W/m·K)

Tabel 1. Sifat fisik dhasar lapisan TaC


Tantalum carbide coatingbisa èfèktif nglindhungi komponen grafit saka efek saka amonia panas, hidrogen, uap silikon, lan logam molten ing lingkungan panggunaan atos, Ngartekno ndawakake umur layanan komponen grafit lan suppressing migrasi impurities ing grafit, njupuk kualitasepitaxiallanwutah kristal.


Common Tantalum Carbide Coated Components

Gambar 1. Komponen Umum Tantalum Carbide Coated



Preparation saka TaC coating dening proses CVD


Deposisi uap kimia (CVD) minangka cara sing paling diwasa lan optimal kanggo ngasilake lapisan TaC ing permukaan grafit.


Nggunakake TaCl5 lan Propylene minangka sumber karbon lan tantalum masing-masing, lan argon minangka gas pembawa, uap TaCl5 sing nguap suhu dhuwur dilebokake menyang kamar reaksi. Ing suhu lan tekanan target, uap materi prekursor adsorbs ing permukaan grafit, ngalami seri reaksi kimia kompleks kayata dekomposisi lan kombinasi sumber karbon lan tantalum, uga sawetara reaksi permukaan kayata difusi lan desorpsi produk sampingan saka prekursor. Pungkasan, lapisan protèktif sing padhet dibentuk ing permukaan grafit, sing nglindhungi grafit saka orane stabil ing kahanan lingkungan sing ekstrem lan sacara signifikan ngembangake skenario aplikasi bahan grafit.


Chemical vapor deposition (CVD) process principle

Gambar 2.Prinsip proses deposisi uap kimia (CVD).


Kanggo informasi luwih lengkap babagan prinsip lan proses nyiapake lapisan CVD TaC, waca artikel:Carane nyiyapake lapisan CVD TaC?


Napa milih Veteksemicon?


Veteksemiconutamane nyedhiyakake produk tantalum carbide: cincin pandhuan TaC, cincin petal sing dilapisi TaC,TaC coating crucible, TaC lapisan keropos grafit sing digunakake digunakake yaiku proses wutah kristal SiC; Grafit keropos kanthi TaC Coated, TaC Coated Guide Ring,TaC Coated Graphite Wafer Carrier, suseptor lapisan TaC,suseptor planet, Lan produk lapisan tantalum karbida iki akeh digunakake ingProses epitaksi SiClanProses Pertumbuhan Kristal Tunggal SiC.


Veteksemicon Most Popular Tantalum Carbide Coating Products

Gambar 3.VeTek Produk Lapisan Tantalum Carbide Paling Populer Semikonduktor



FAQs About TaC Coating


1. Apa lapisan TaC digunakake?

Lapisan TaC digunakake kanggo nglindhungi grafit lan komponen adhedhasar karbon sing dipilih ing lingkungan termal lan kimia. Aplikasi penting kalebu peralatan pertumbuhan kristal SiC lan komponen pangolahan epitaxial semikonduktor tartamtu.


2. Apa bedane antarane lapisan TaC lan SiC?

TaC lan SiC minangka bahan karbida sing beda-beda kanthi sifat termal, kimia lan mekanik sing béda. TaC bisa migunani ing lingkungan pertumbuhan kristal suhu ekstrem sing dipilih, dene CVD SiC akeh ditetepake ing komponen reaktor semikonduktor. Pilihan gumantung ing aplikasi.


3. Napa lapisan TaC digunakake ing wutah kristal SiC?

Lapisan TaC bisa mbantu nglindhungi komponen grafit saka lingkungan proses SiC PVT sing nuntut. Desain lapisan sing mumpuni kanthi bener bisa nyuda degradasi substrat lan risiko kontaminasi.


4. Apa nyebabake retak utawa delaminasi lapisan TaC?

Penyebab potensial kalebu stres residual, gradien suhu, cacat substrat, siklus termal sing ora kompatibel lan degradasi antarmuka lapisan. Analisis kegagalan sing rinci dibutuhake kanggo nemtokake sabab nyata.


5. Apa lapisan TaC padha karo lapisan logam tantalum utawa lapisan ta-C?

No. TaC minangka tantalum carbide, senyawa keramik saka tantalum lan karbon. Lapisan logam Tantalum minangka bahan sing beda-beda, dene ta-C biasane nuduhake karbon amorf tetrahedral, wangun lapisan karbon kaya inten.


6. Bisa TaC-dilapisi komponen grafit bisa selaras?

Geometri komponen, kelas grafit, syarat lapisan lan kritéria inspeksi bisa ditemtokake kanggo review teknik. Kelayakan manufaktur lan toleransi sing bisa ditindakake kudu dikonfirmasi karo aplikasi lan gambar sing disetujoni.


Warta sing gegandhengan
Ninggalake kula pesen
X
Kita nggunakake cookie kanggo menehi pengalaman browsing sing luwih apik, nganalisa lalu lintas situs lan nggawe konten pribadi. Kanthi nggunakake situs iki, sampeyan setuju kanggo nggunakake cookie. Kebijakan Privasi
nolakNampa